ICP 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다.

2020.08.21 15:03

이경민 조회 수:2489

저는 광학박막 분야에서 sputter 장비를 이용하여 간섭필터를 코팅하고 있습니다.

sputter에 ICP를 같이 사용하여 기판에 증착된 Si와 반응가스를 결합시키는 용도로 사용하고 있습니다.

ICP코일 앞에 위치한 Quartz 표면에서 식각된 것 같은 모양새를 보여 원인분석에 있습니다.


질문1. ICP 쪽에 Self bias로 인해 Quartz가 식각되는 현상이 발생될 수 있는지 궁금합니다

질문2. Ar과 함께 들어가는 반응가스로 O2를 사용했을 때와 H2를 사용했을 때 ICP 쪽과 기판 쪽에서 어떤 현상들이 생기는지 궁금합니다

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76858
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20263
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57196
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68747
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92612
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1368
575 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2450
574 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 458
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1117
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6419
571 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 817
570 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 587
569 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 968
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1507
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1172
566 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5572
565 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 849
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1707
563 플라즈마볼 제작시 [1] file 2248
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2586
561 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 548
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3331
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16665
558 알고싶습니다 [1] 1466
쓰기
태그

Boards

XE Login