안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] 75026
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18868
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56342
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66861
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88345
499 임피던스 매칭회로 [1] file 2446
498 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 484
497 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1398
496 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1170
495 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 2634
494 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 947
493 질문있습니다. [1] 2334
492 chamber impedance [1] 1846
491 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 2321
490 플라즈마 관련 기초지식 [1] 1777
489 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4705
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1226
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 581
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 5926
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1286
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 994
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 2504
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2669
481 교수님 질문이 있습니다. [1] 638
480 wafer bias [1] 961

Boards


XE Login