Others analog tuner관련해서 질문드립니다.
2017.03.07 16:14
안녕하세요 반도체 장비회사에서 인턴으로 일하고있습니다.
pecvd장비를 이용해 ACL(amorphous carbon layer)을 올리는데 박막 stress를 줄여보고자 analog tuner를 chamber side와 bottom에 달았습니다.
여기서 궁금한 것은 analog tuner가 어떤 원리로 쓰여지는건지 궁금합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76792 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20229 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57178 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68723 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92481 |
571 | ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. | 16947 |
570 | 플라즈마 처리 | 16932 |
569 | ICP 식각에 대하여... | 16919 |
568 | Virtual Matchng | 16853 |
567 | sputter | 16847 |
566 | nodule의 형성원인 | 16762 |
565 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16663 |
564 | 몇가지 질문있습니다 | 16578 |
563 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16488 |
562 | 플라즈마의 어원 | 16338 |
561 | 궁금해서요 | 16316 |
560 | 궁금합니다 [1] | 16177 |
559 | 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용 | 16068 |
558 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] | 16037 |
557 | 핵융합과 핵폐기물에 대한 질문 | 16023 |
556 | 역 수소폭탄에 대하여... | 16009 |
555 | k star | 15957 |
554 | ICP TORCH의 냉각방법 | 15920 |
553 | corona | 15887 |
552 | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15885 |
저희는 잘 모르는 jargon 입니다. Tuner가 power 혹은 impedance를 맞추기 위한 추가 tunning knob을 의미하는지는 모르겠습니다, 다만 장치가 제공하는 공정 중에 plasma 상태에 따른 피막의 스트레스 성분에 대한 자료가 있어야 이를 사용할 수 있을 것이라는 생각이 듧니다. 자료가 충분히 제공이 되지 않았다면, 박막 재료 하시는 분과 먼저 논의하기를 추천합니다. 저희는 박막의 특성을 잘 모르며, 박막 플라즈마를 다룬 경험이 많지 않습니다만, 박막 플라즈마를 하는 연구실에서는 알 수도 있는 일입니다. 다만 관련 플라즈마 정보를 얻기가 쉽지 않으므로, tunning의 원리를 찾기에는 연구가 필요할 것으로 예상합니다.