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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63739
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83486
456 charge effect에 대해 [2] 1152
455 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1153
454 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1167
453 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1168
452 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1169
451 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1184
450 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 1186
449 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1188
448 Ar plasma power/time [1] 1192
447 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1196
446 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1212
445 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1213
444 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1213
443 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1215
442 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1220
441 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1220
440 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1222
439 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1223
438 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1224
437 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1247
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