Collision 자기 거울에 관하여
2018.11.03 16:17
자기 거울 내부의 입자의 운동을 설명하고자 합니다. 자기 거울 내부에 multi particle이 존재하는 경우에는 multi particle을 plasma fluid로 처리한다고 합니다. steady state인 background plasma가 깔려있는 상태에서 test particle만 충돌에 의해 궤적이 바뀌는 방식의 접근을 취하고자 하는데, 유체 방정식이 너무 어렵네요. 저는 test particle이 구속되는 시간을 구하고자 하는데, 혹시 이와 관련된 matlab 프로그램이나 포트란 코드를 가지고 계시면 공유 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76736 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68702 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
569 | RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] | 1058 |
568 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1059 |
567 | etch defect 관련 질문드립니다 [1] | 1059 |
566 | 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] | 1064 |
565 | 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] | 1066 |
564 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1071 |
563 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 1081 |
562 | Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] | 1087 |
561 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 1104 |
560 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1113 |
559 | 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] | 1113 |
558 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1118 |
557 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1118 |
556 | Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] | 1121 |
555 | wafer bias [1] | 1129 |
554 | 전자 온도 구하기 [1] | 1131 |
553 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1132 |
» | 자기 거울에 관하여 | 1139 |
551 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1141 |
550 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1144 |