Sheath 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion]

2019.04.11 13:18

PJH 조회 수:1405

안녕하세요. 플라즈마 물리를 공부하고 있는 학생입니다.

쉬쓰천이지역쪽을 살펴보는데 이해가 안가는 부분이 있어서 질문올립니다.

 쉬쓰천이지역에서 이온의 속도를 구할 때 왜 전자의 온도를 적용하는지 모르겠습니다.

제가 사용하는 교재에는 맥스웰볼츠만식에서의 속도는 이온의 온도에 의존하는 반면에 이 쉬쓰에 들어오는 이온의 속도는 이온의 온도가 아닌 전자의 온도에 의존하므로 속도가 빨라진다. 라고만 쓰여있는 그 이유에 대해서 언급이 안되어 있습니다.

왜 그런지 알 수 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102768
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24678
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61396
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73463
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105803
613 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1223
612 RF tune position과 Vms의 관계가 궁금합니다. [Chamber component, Matcher] [1] 1224
611 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭] [1] 1226
610 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 1231
609 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 1234
608 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기] [1] 1235
607 플라즈마 코팅 [The Materials Science of Thin Films] [1] 1236
606 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브] [2] 1240
605 자기 거울에 관하여 1245
604 반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술] [1] 1246
603 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 1251
602 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1259
601 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 1264
600 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 1274
599 Plasma에서 Coupled(결합)의 의미 [Power coupling과 breakdown] [1] 1283
598 아래 382번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [Self bias와 capacitance] [1] 1284
597 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb] [1] 1292
596 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1298
595 3-body recombination 관련 문의드립니다. [Energy 보존 및 momentum 보존] [2] 1312
594 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1313
쓰기
태그

Boards

XE Login