안녕하세요. 저는 반도체 업종에서 근무하고 있습니다.

궁금한 점이 있어 질문드립니다.

Amorphous carbon 을 O2 분위기하에서 플라즈마 처리 할 경우 제거되는 지 궁금합니다.

또한 TIN 막을 H2 plasma 처리 할 경우 질소가 제거 된 TI가 되는 지 궁금합니다.

챔버 내 대기압 또는 진공상태가 위의 결과에 영향을 크게 미치는 지 궁금합니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76875
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68752
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92698
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2338
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 964
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 761
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2833
553 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1446
552 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2491
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 706
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1608
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4528
548 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1130
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10386
546 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2493
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 896
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3807
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 488
542 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2297
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1851
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3760
539 플라즈마 살균 방식 [2] 11486
538 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1387

Boards


XE Login