안녕하세요?

제가 알기로는 CCP는 두 전극사이에서 플라즈마가 일어나는 것으로 알고 있는데, 만약 두 전극 사이에 유전체가 속해진다면, 이 유전체가 어떠한 역할을 하는지 알고 싶습니다. 

http://plasma.ee.pusan.ac.kr/xe/sou

위의 사이트에서 보니깐 CCP에 유전체가 원래 있는 것처럼 보이는데, 웹에서 다른 내용을 보면 유전체 이야기는 없는, 단지 두 개의 평행한 전극만 이야기하는 내용도 있어서 궁금해서 글을 올립니다.

감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [335] 103761
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24749
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61617
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73560
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 106074
593 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다. [플라즈마 특성변화와 SH impedance 변화] [1] 2734
592 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1743
591 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [회로인자 및 구동기구, 플라즈마 특성] [1] 6567
590 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [Maxwallian EEDF] [2] 3758
589 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [DC glow discharge] [1] 1173
588 플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE] [1] 2416
587 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [충돌 반응 rate constant] [4] 5316
586 플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건] [2] 1725
585 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1412
584 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath] [1] 4425
583 플라즈마 용어 질문드립니다. [Self bias] [1] 1093
582 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1990
581 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1915
580 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1283
579 RF 반사파와 이물과의 관계 [Physical/chemical cleaning] [1] 1460
578 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산] [1] 591
577 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [Mean free path] [1] 29613
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1886

Boards


XE Login