번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48660
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 50558
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 56136
329 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 1730
328 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 1753
327 플라즈마 색 관찰 [1] 1773
326 RPSC 관련 질문입니다. [2] 1803
325 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 1897
324 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 1913
323 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 1934
322 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 1944
321 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 1981
320 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2084
319 PR wafer seasoning [1] 2118
318 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 2164
317 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 2231
316 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 2445
315 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 2531
314 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 2587
313 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 2641
312 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 2642
311 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 2676
310 ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. file 2714

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