안녕하세요, 플라즈마에 대해서 공부 중인 학생입니다.

다중 주파수를 이용한 ccp 타입의 플라즈마 식각 장치에서 바이어스 전극에 저주파 전력을 인가함으로써, 이온 입사에너지를 증대된다고 배웠는데요. 어떠한 이유로 저주파 전력을 인가시, 이온 입사 에너지가 증대되는지 궁금해서 질문을 남기게 되었습니다.

그리고, 다중 주파수를 이용한 ccp 타입의 플라즈마 식각장치에서 전극에 고주파 전력을 인가함으로써, 플라즈마 밀도에 정상파 효과가 발생한다고 해당 랩의 논문에서 읽었는데요. 어떠한 이유로 정상파 효과가 발생하고, 고주파 전력을 100MHz --> 60MHz로 변경시 정상파 효과가 줄어드는지 궁금해서 질문을 남기게 되었습니다.

답변을 주시면, 공부하는데 많은 도움이 될 것같습니다.  답변을 부탁드립니다.(- -)(_ _)(- -)

감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [99] 3639
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15320
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50573
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62985
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82037
428 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1331
427 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1332
426 플라즈마 관련 기초지식 [1] 1337
425 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1342
424 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1353
423 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1355
422 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1359
421 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1376
420 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1390
419 질문있습니다. [1] 1398
418 etching에 관한 질문입니다. [1] 1399
» 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1422
416 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1433
415 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1435
414 터보펌프 에러관련 [1] 1441
413 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1487
412 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1488
411 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1496
410 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 1496
409 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1499

Boards


XE Login