Plasma in general Plasma Cleaning 관련 문의

2021.11.30 15:37

김강희 조회 수:1342

안녕하세요.

 

Plasma를 이용한 Cleaning 공부를 하고 있는 직장인 입니다.

 

Remote Plasma Asher 설비를 공부하고 있는데요,

 

PR Remove 시에는 O2 Gas를 사용하여 제거하는 것으로 알고있습니다.

 

C + O* → O2↑

 

여기서 O2를 Plasma로 방전시키고, N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는데,

 

여기서 Carrier gas는 말 그대로 Radical을 이동시키는 역할만 하는 것인가요??

 

N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는 이유가 궁금합니다.

 

추가로 Corrosion 방지를 위해 H2O Gas도 사용하는 것으로 알고 있는데요,

 

H2O 로 Corrosion을 방지하는 원리도 설명 부탁드립니다.

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