안녕하세요 

현재 반도체관련 회사에 인턴중입니다. 

 

다름아니라 스퍼터 내부 플라즈마 주파수를 이론상 예측하려고하는데요,
electron density 혹은 power나 voltage로 계산할 수 있는 수식이 있나 여쭤봅니다.

 

책가방정도의 크기의 챔버에 100W정도 흘릴 예정입니다.

혹시 비슷한 상황에서 플라즈마 주파수를 측정해본 적 있으시다면 조언 부탁드립니다

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77301
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20496
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57414
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68946
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92988
570 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1093
569 Plasma Arching [1] 1101
568 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1103
567 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1112
566 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1115
565 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1121
564 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1126
563 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1143
562 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1149
561 자기 거울에 관하여 1152
560 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1152
559 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1155
558 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1155
» 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1158
556 Group Delay 문의드립니다. [1] 1161
555 wafer bias [1] 1165
554 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1174
553 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1175
552 공정플라즈마 [1] 1175
551 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1180

Boards


XE Login