Others RPC CLEAN 시 THD 발생

2018.10.25 14:48

야키소바빵 조회 수:633

안녕하세요 반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.

현재 저희 설비에 2개의 CHAMBER가 달려 있습니다. RPC CLEAN을 사용하는 장비인데

두 CH가 동시에 CLEAN이 동작하게되면 공급단 POWER 관련하여 지속적인 ERROR 가 발생을 합니다.(따로 진행시 문제 없음)

고조파 측정시 2개의 CH가 동시에 CLEAN 진행시 높아지는 현상을 발견 하였으나, 그 원인을 찾기 힘들어 질문 드립니다.

POWER CABLING이 의심 되는 상황이나, CABLE 길이 및 위치, 혹은 말림 정도가 영향이 있는지 문의 드리고, 혹시 이 외에 다른 원인을 추측할만한 내용이 있을지 질문 드립니다.

현재 CABLE 연결 상태 및 POWER SUPPLY(설비단) 교체 등 다른 방법을 진행 해 보았으나, 현상이 동일하게 발생하여 설비단 보다는  공급단쪽 POWER를 의심하고 있는 상태 입니다.


혹시 이 글과 관련된 경험이 있으신분은 답변 부탁 드리겠습니다.

감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76714
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68695
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
528 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1729
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 446
526 remote plasma 데미지 질문 [1] 14457
525 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1914
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1281
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6567
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1162
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1236
520 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3915
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2233
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17671
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1056
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3686
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 587
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10344
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 800
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 756
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19776
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 839
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3645

Boards


XE Login