Others Plasma arcing 관련하여 문의드립니다.

2021.02.09 16:16

디스플레이꿈나무 조회 수:1355

안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76737
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92282
529 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1273
528 플라즈마 기초입니다 [1] 1282
527 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1288
526 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1292
525 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1295
524 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1309
523 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1319
522 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1319
521 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1323
520 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1324
519 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1330
518 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1332
517 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1345
516 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1349
515 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1354
» Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1355
513 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1370
512 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1375
511 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1376
510 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1380
쓰기
태그

Boards

XE Login