Sputtering 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다.

2012.04.01 11:51

처리 조회 수:10302

ICP chamber 방식이며 Generator는 13.56MHz, 1.5kw두개를 사용할경우

matcher제작 or 분석을 하려는데 국내, 일본 회사에서는 불가능 할것 같다고 합니다.

미국의 AE, MKS를 제외하고 RF matcher나 Generator 방면에서 기술력을 갖고 있는

회사가 있을까요?

혹시 알고 계신곳이 있으면 가르쳐 주시면 감사하겠습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76749
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20217
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57169
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68707
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92306
530 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1270
529 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1273
528 플라즈마 기초입니다 [1] 1282
527 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1292
526 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1297
525 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1298
524 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1311
523 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1319
522 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1319
521 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1325
520 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1325
519 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1330
518 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1333
517 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1349
516 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1350
515 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1354
514 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1356
513 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1372
512 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1375
511 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1376
쓰기
태그

Boards

XE Login