안녕하세요

은퇴후 자작으로 해봅니다.

이쪽은 생소한 분야라서 공부하면서 실험합니다. (본래 저는 전자공학을 전공했습니다.)

백금족 전극으로 수도물에

1)  DC 12V를 인가하여 5분간 전기분해 개념으로 작동했더니, >> ORP = -200~-300mV, Ph=7.5~7.7, 수소 300~400PPB 정도가 생성,

2) 같은 조건으로 30초 간격으로 전극의 극성을 바꾸었더니 측정 결과는 조금 높게 나옵니다.

3) 그리고 이번에는 DC 12, 10KHz 구형파를 작동식켜보니 좀더 나은 데이터가 나오고

4)  24KHz를 걸어보니 좀더 나은 데이터가 나오는데

질문은요...

(1) 위 실험 중에서 전기분해와 플라즈마 발생을 나눌 수 있나요.

    예를들면 1), 2)는 전기분해, 3),4)는 플라즈마...

(2) 위 1과 2가 다른 데이터가 나오는 이유가 무엇일까요.

(3) 3,4 에서 주파수를 계속높이면 더 좋은 결과를 얻을 수 있을까요.

(4) 그렇다면 주파수는 얼마까지 높일 수 있나요.

설명 주시면 감사하겠습니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [300] 77759
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20732
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57648
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69148
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93413
557 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1185
556 wafer bias [1] 1187
555 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1190
554 공정플라즈마 [1] 1192
553 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1199
552 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1203
551 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1204
550 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1208
549 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1216
548 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1217
547 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1219
546 전자 온도 구하기 [1] file 1219
545 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1232
544 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1233
543 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1239
542 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1252
541 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1262
540 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1264
539 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1268
538 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1277

Boards


XE Login