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571 [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc)+Vp(plasma potential)관련 질문입니다. [플라즈마 전위와 쉬스] [1] 13228
570 ICP와 CCP의 차이 [Self bias와 Maxwellian distribution] [3] 13224
569 반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하] 12985
568 matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance] [1] 12964
567 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [쉬스 전위 및 플라즈마 세정] [1] 12573
566 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. [디바이 차폐와 이온화된 가스] 12552
565 DC bias (Self bias) ["Glow discharge processes"] [3] 12041
564 플라즈마 살균 방식 [Plasma medicine] [2] 11989
563 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [플라즈마의 유지와 쉬스] [1] 10849
562 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [플라즈마트 및 휘팅커 회사] [1] 10810
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560 플라즈마 PIC 질문드립니다. [PIC simulation] [1] 10729
559 ICP 구성에서 PLASMA IGNITON시 문의 [ICP와 플라즈마 발생] [1] 10606
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