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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수]
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551 |
접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경]
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550 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending]
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549 |
챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건]
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Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp]
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플라즈마 PIC 질문드립니다. [PIC simulation]
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[RIE] reactice, non-reactice ion의 역할 [Dissociation과 Ar plasma]
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O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation]
[1] | 1170 |
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진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas]
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자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy]
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542 |
Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution]
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플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement]
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CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss]
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플라즈마 살균 방식 [Plasma medicine]
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Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance]
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537 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [LF와 Sheath]
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H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field]
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535 |
Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어]
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534 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher]
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533 |
O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure]
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