Etch 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다.
2019.11.13 11:27
안녕하세요 교수님~
현재 연구실에서 플라즈마 에칭 장비에 대해 공부하고 있는 학생입니다.
다름이 아니라 이제까지 소형 챔버에서 에칭 실험을 진행하다가 대형 챔버로 바꾸어 실험하면서 궁금한 점이 생겨 질문드립니다.
1. 같은 압력에서 (예: 10mTorr) 유량 (sccm)만 바꿔가며 실험하고 있는데 이것이 어떤 관계가 있는지 궁금합니다.
2. 소형챔버에서 발견한 유량을 대형챔버로 그대로 옮겨버리면 residence time이 확줄어서 더 많은 sccm을 넣어야한다는데
PV/유량 = residence time 이라는 식에서 바라본다면 V가 증가하여 오히려 증가하는거 아닌가 궁금합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76865 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20266 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57197 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68750 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92684 |
517 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9531 |
516 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9531 |
515 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9265 |
514 | 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] | 9249 |
513 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9043 |
512 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 8995 |
511 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8928 |
510 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8752 |
509 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8736 |
508 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 8690 |
507 | N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] | 8621 |
506 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8618 |
505 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8582 |
504 | Microwave 장비 관련 질문 [1] | 8581 |
503 | 핵융합에 대하여 | 8564 |
502 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 8561 |
501 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8136 |
500 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8126 |
499 | 고온 플라즈마 관련 | 8090 |
498 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 8051 |