matcher를 봤을 때 직렬은 tune 병렬은 load라 튠값으로는 리액턴스를 로드 값으로는 저항성분에 대해 알 수 있다고 알고 있는데요

가끔 로드랑 튠 값이 흔들리고 산포가 좋지 않을 때가 있다합니다. 이렇게 값들이 흔들리는 이유로는 전체적으로 뭐가 있을까요?

또 plasma를 켰을 떄 매쳐의 로드와 튠 값에 영향을 주는 이자들은 무엇들이 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79710
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21376
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69749
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94682
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas] [1] 4112
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy] [1] 575
542 Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution] [1] 2499
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement] [1] 2167
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss] [3] 4058
539 플라즈마 살균 방식 [Plasma medicine] [2] 11645
538 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 1520
537 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [LF와 Sheath] [1] 2693
536 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field] [1] 514
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1183
534 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher] [2] 3525
533 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure] [1] 6558
532 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1360
531 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 2556
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath] [1] 2060
529 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22504
528 CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information] [1] 1933
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion] [1] 522
526 remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown] [1] 14615
525 RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage] [3] 2099

Boards


XE Login