안녕하세요. 반도체 회사 근무중인 송용재입니다.

 

3가지 질문을 드리려고 합니다.

 

염근영 교수님 플라즈마 식각 기술이라는 책을 구매하여 보고있는데 제 실력이 부족해서 이해가 되지않아 질문 남깁니다.

 

1.  이온의 속도는 왜 전자의 온도로 결정되는건가요? 공식은 알겠지만 .. 메카니즘이 이해되지 않아 질문 남깁니다.

 

2. RF 등가회로는 왜 저항으로 표기 되는건가요??

 

3. 파센법칙 관련해서 질문드립니다.

    진공상태에서 거리가 멀어지는데 왜 입자수가 증가되는건가요?

     입자간의 전기장은 전자의 가속과 왜 관계가 있는건가요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103066
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24696
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61469
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73496
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105886
553 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1646
552 안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수] [2] 2775
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 936
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1895
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건] [3] 5738
548 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1442
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [PIC simulation] [1] 10681
546 [RIE] reactice, non-reactice ion의 역할 [Dissociation과 Ar plasma] [1] 3208
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1225
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas] [1] 4602
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy] [1] 883
542 Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution] [1] 2808
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement] [1] 2810
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss] [3] 4525
539 플라즈마 살균 방식 [Plasma medicine] [2] 11914
538 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 1781
537 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [LF와 Sheath] [1] 3259
536 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field] [1] 650
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1463
534 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher] [2] 5831

Boards


XE Login