PLASMA에 영향이 있는 ICP챔버의 경우에 대한 Parameter 해석관련 질문드립니다.

공식으로 알고 있는 이해보다 왜 그런지 쉬운 설명으로 메카니즘 해석 좀 부탁드리겠습니다.

제가 잘못알고 있거나 일부분만 알고 있는 내용일수 있는데 이점 양해 부탁드립니다.

책을 보았으나 혼동되는 부분이 있어 개념을 잡으려고 합니다..

 

* RF bias POWER는 전자밀도 와 비례 , ion flux 와 비례하는걸로 알고 있습니다.

1. electron density 와 비례한다면 ,,, ion density는 영향이 없는건가요?

2. 전자밀도가 높으면 쉬쓰 두께는 왜 줄어드나요?  

    충돌확률이 왜 전자밀도와 반비례인가요?  밀도가 높은데 충돌확률이 왜 떨어지는지 잘 모르겠습니다..

3. debye length 인/척력이 이온이나 전자의 가속과 관련이 있는건가요..?   

   입자의 속도는 밀도와 온도에만 관련있다고 알고 있는데 인/척력이 나오니 좀 헤깔리네요;;

4. ICP type에서 RF source power는 bias power 와 ion이나 전자 거동이 어떻게 다른지 궁금합니다.

    사실 제가 RF(source power 상단부) Reflect power 부분이 관심이 많습니다..

-  Bias voltages depend on gas  :  √Te/Kiz(Te) ~ d

 

  -  ω↑      n      sheath 두께 δsh      플라즈마 size d      전자온도 Te
        충돌확률 νm     Diffusion D      more symmetric      Vdc-bias      Vdc-sh

 

  -  δsh ∝ ω-1   ,    d (plasma width) = characteristic length - sheath width

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103153
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24696
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61487
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73506
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105911
553 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1646
552 안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수] [2] 2775
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 936
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1895
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건] [3] 5738
548 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1442
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [PIC simulation] [1] 10681
546 [RIE] reactice, non-reactice ion의 역할 [Dissociation과 Ar plasma] [1] 3210
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1225
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas] [1] 4603
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy] [1] 883
542 Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution] [1] 2808
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement] [1] 2812
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss] [3] 4528
539 플라즈마 살균 방식 [Plasma medicine] [2] 11914
538 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 1781
537 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [LF와 Sheath] [1] 3259
536 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field] [1] 650
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1464
534 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher] [2] 5845

Boards


XE Login