안녕하세요. 저는 화학생물공학부에서 석사과정중인 학생입니다.



다름이 아니라 저희 실험실에서 TEM 그리드 표면개질을 하는데 수소 플라즈마 처리를 하고 싶은데 저희가 갖고 있는 장비로 될지 여쭤보기 위해서 이렇게 글 올립니다.



현재 갖고 있는 플라즈마 장비는 PELCO의 easiGlow 라는 장비인데요, 저희는 그냥 따로 가스관을 연결하진 않고 지금까지는 그냥 공기를 써서 O2 플라즈마로만 썼었습니다.


그런데 저희가 갖고 있는 장비로 수소통에 regulator를 달아서 연결하면 수소 플라즈마가 혹시 가능할지 궁금해서 여쭤봅니다.


스펙은 다음과 같습니다.

Specifications of the PELCO easiGlow™ Glow Discharge system

Plasma Current0-30 mA
HV Power supply30W Continuous Rating
Glow Discharge Head PolarityUser Selectable positive or negative
Process PlatformØ75mm with recess for 25 x 75mm slide
Glow Discharge Platform Height Control1-25 mm
Preprocess Hold Timer0-14411 sec.
Process Timer0-900 sec.
Chamber SizeØ120 x 100mm H with sealed Delrin top plate (inside Ø106 x 90mm)
Process/Vent gas inlets2 each Ø6 mm barbed, individually user selectable for process, purge or vent
High Voltage Vacuum InterlocksDual hardware and software interlocked
Vacuum ControlPirani Gauge, ranging from atmosphere to 0.01 mbar
Working Vacuum Range1.1 - 0.20 mbar for optimal glow
System Control / Display3" Touch Panel with LED backlight and 5 function keys
Operation ModesAuto Programmed (4 user programmed protocols) Manual/Diagnostics
Data Logging CapabilitiesStep #, Vacuum (mbar), Current (mA), Voltage (V), and polarity, once per second
Instrument Size305 L x 292 D x 230mm H (12" x 11-1/2" x 9 ")
Weight6.26 kg (13.8 lbs.)
GD4 Pump (optional)337 L x 138 D x 244mm H (13.3" x 5.4" x 9.6 ")
Weight11 kg (24 lbs.)
Laboratory Footprint with optional pump381 W x 292 D x 330mm H (15" x 11-1/2" x 13 ")
Power Requirements120V 60Hz, 15A or 230V 50Hz, 10A Service
Instrument Power Rating100-240VAC 60/50Hz 60W Plus Pump, IEC Inlet
Optional Pump Power Rating120/230V 60/50Hz 370 W (1/2 hp)
Vacuum Pump Minimum requirements2.5 m3/hr, 41 l/m, 1.65 CFM
0.03 mbar Ultimate Vacuum
Vacuum Pump Power Outlet on Instrument8A max IEC Outlet
Vacuum InletKF 16 flange
Data Logging CapabilitiesStep #, Vacuum (mbar), Current (mA), Voltage (V), and polarity, once per second
Communication PortUSB Outlet

 


질문이 조금 게시판과 맞지 않은점 죄송합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3646
508 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1030
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1226
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2974
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 542
504 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1601
503 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1937
502 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11329
501 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2316
500 공정플라즈마 [1] 1145
499 임피던스 매칭회로 [1] file 2804
498 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 550
497 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1689
496 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1507
495 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3383
494 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1157
493 질문있습니다. [1] 2572
492 chamber impedance [1] 2009
491 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3278
490 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2128

Boards


XE Login