ESC ESC Cooling gas 관련

2019.02.21 19:22

jake88 조회 수:3376

Etch공정에서 ESC Cooling gas로 He을 주로 사용하는데 열전도도가 좋고 불활성가스라는 이유로 많이 사용되는것으로 알고있습니다

비교적 원가가 저렴한 N2가스를 사용하는 경우도 있을까요? 열전도도 반응성이 N2또한 괜찮은것으로 알고있는데 혹시 문제가 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] 75754
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19439
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56665
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68001
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90230
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1787
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 971
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1753
474 PEALD관련 질문 [1] 32172
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 1896
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3095
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1005
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 622
469 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3699
468 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 405
467 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2152
466 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1111
465 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1261
464 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 916
463 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1755
462 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2357
461 Wafer particle 성분 분석 [1] 2217
460 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2329
459 charge effect에 대해 [2] 1405
458 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1332

Boards


XE Login