회원 가입했어요

 유용한 사이트 운영 감사 드립니다


 RPS(Remote plasma source) 에 들어가는 알미늄 부품 중기가

수출하고자 하는데요.

  이제품이 반도체 CVD CHAMBER MAKER에 들어가는 부품이라고 합니다


  CHAMBER 내부 구조도를 간략히 개념도로 알려 주실수 있나요?


 -챔버 내에 어느부위에 몇개가 들어 가는지요?

 - RPS 가 CVD 챔버에서 어떤 기능을 하는지요? 

- 세계적 선도 RPS 기업은 어디 인지요? 

-플라스마 여러 소스중 RPS 의 비중은 어느정도나 되나요?   채용시 장점은 ?


evision21 드림

trade consultanta  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [252] 76384
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19968
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57056
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68521
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91227
491 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3104
490 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2068
489 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4989
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1344
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 708
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6215
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1570
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1139
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3063
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2817
481 교수님 질문이 있습니다. [1] 718
480 wafer bias [1] 1097
479 Group Delay 문의드립니다. [1] 1128
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 496
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1896
» 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1023
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1876
474 PEALD관련 질문 [1] 32582
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2036
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3268

Boards


XE Login