Matcher RF Power reflect 관련 문의 드립니다.
2016.09.23 01:10
안녕하세요. 반도체 회사에서 근무하고있는 직장인입니다.
etch 장비에서 초기 reflect power 안정화를 위해 shunt / series 값을 tuning 하여 어느정도 개선은 하였는데
전환되는 step 에서는 reflect power 를 빠르게 안정시킬 수 있는 방법이 궁굼합니다.
댓글 4
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76882 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20277 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68755 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92709 |
| 518 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1359 |
| 517 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1367 |
| 516 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1368 |
| 515 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1376 |
| 514 | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] | 1379 |
| 513 | 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] | 1380 |
| 512 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1388 |
| 511 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1393 |
| 510 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1398 |
| 509 |
dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!!
[1]  | 1407 |
| 508 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1407 |
| 507 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1415 |
| 506 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1417 |
| 505 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
| 1425 |
| 504 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1437 |
| 503 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1438 |
| 502 | Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] | 1440 |
| 501 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1441 |
| 500 | ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 | 1442 |
| 499 | Ar plasma power/time [1] | 1445 |