Matcher Load position 관련 질문 드립니다.
2021.02.03 17:50
이제 막 Plasma라는 것에 첫발을 딛은 직장 입니다.
주파수는 13.56Mhz 사용 중입니다.
공정 Power가 500W -> 1000W로 올렸더니 Load position이 내려 갔습니다.
RF power가 상향되면 Load position이 내려가는 이유를 잘 모르겠습니다. (기계공학전공입니다.)
Load position이 내려가는 이유를 알려주실수 있을까요?
감사합니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76736 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68702 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
| 509 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1386 |
| 508 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1388 |
| 507 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1395 |
| 506 |
dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!!
[1]  | 1402 |
| 505 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1408 |
| 504 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
| 1409 |
| 503 | ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 | 1419 |
| 502 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1423 |
| 501 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1425 |
| 500 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1429 |
| 499 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1436 |
| 498 | Ar plasma power/time [1] | 1437 |
| 497 | PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] | 1442 |
| 496 | 강의를 들을 수 없는건가요? [2] | 1445 |
| 495 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1445 |
| 494 | PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] | 1453 |
| 493 | Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] | 1454 |
| 492 | 알고싶습니다 [1] | 1458 |
| 491 | RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. | 1459 |
| 490 | rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] | 1460 |
Impedance Matching이라는 개념을 이해해 보시는 것이 필요합니다.
아울러 matcher 에서 load/ tune position의 의미는 capacitor의 위치 조절이며 이는 capacitance가 바뀌고 있음으로 이해할 수 있습니다.
하면 matcher의 cap 크기가 바뀌는 이유를 알면 position 변화의 의미를 이해할 수 있을 것 입니다.
좀 더 깊은 정보를 얻으려면 cap position 변동 즉 step motor의 변화 값 대비 capacitance 의 변동 값에 대한 상관관계 데이터를 받아
position 변화가 cap 증가 혹은 감소'분'의 관계를 알고 계셔야 장비 설계와 운전을 보다 용이하게 수행하실 수가 있겠습니다.
본 계시판에서 impedance matching 혹은 matcher 라는 주제어로 검색을 추천드립니다.