Plasma in general ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요?
2021.09.11 22:39
건식식각 방법에 크게 이온을 이용하는 스퍼터 식각과 라디컬을 이용하는 화학적 식각 그리고 이온, 라디칼 모두를 이용하는 RIE가 있는데 ICP와 CCP로 생성한 플라즈마를 이용해서 물리적,화학적,반응 이온성 식각을 진행하는것으로 이해하면 되는건가요??
차이점은 어떠한 가스를 넣느냐에 따라 물리적 식각만 이루어질수도 있고, 화학적 식각만 이루어질수도 있고, RIE식각만 이루어질 수도 있는건가요??
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 76951 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20315 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57238 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68787 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92778 |
| 521 |
CCP 챔버 접지 질문드립니다.
[1]  | 1343 |
| 520 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1351 |
| 519 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1357 |
| 518 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1371 |
| 517 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1371 |
| 516 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1377 |
| 515 | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] | 1381 |
| 514 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1385 |
| 513 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1393 |
| 512 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1394 |
| 511 | 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] | 1395 |
| 510 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1398 |
| 509 |
dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!!
[1] | 1409 |
| 508 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1417 |
| 507 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1417 |
| 506 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1422 |
| 505 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
| 1427 |
| 504 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1439 |
| 503 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1441 |
| 502 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1442 |