|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 48660 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 50558 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
| 56135 |
|
289 |
액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다!
[1] | 6241 |
|
288 |
저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ
[1] | 6164 |
|
287 |
ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다.
[1] | 6035 |
|
286 |
공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제
[2] | 6023 |
|
285 |
OES 원리에 대해 궁금합니다!
[1] | 6010 |
|
284 |
플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의..
[1] | 5925 |
|
283 |
플라즈마 데미지에 관하여..
[1] | 5836 |
|
282 |
저온 플라즈마에 관해서
[1] | 5354 |
|
281 |
DC bias (Self bias)
[3] | 5330 |
|
280 |
안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다.
[1] | 5326 |
|
279 |
자료 요청드립니다.
[1] | 5262 |
|
278 |
플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요?
[1] | 4896 |
|
277 |
RF calibration에 대해 질문드립니다.
| 4816 |
|
276 |
RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다
[2] | 4358 |
|
275 |
Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다.
[1] | 4208 |
|
274 |
안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다.
[3] | 4175 |
|
273 |
the lines of magnetic induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문
[1]  | 3905 |
|
272 |
DRAM과 NAND에칭 공정의 차이
[1] | 3891 |
|
271 |
RF Vpp 관련하여 문의드립니다.
[1] | 3881 |
|
270 |
Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다.
[2] | 3526 |
