Sheath Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [Self bias와 matcher]
2017.08.03 10:57
안녕하세요.
저희 장비에서 RF는 상부와 하부로 나뉘어져 있고 하부 쪽에서 Vpp가 측정됩니다. 보통 이것과 Ion energy를 비례하게 해석하던데, 어떻게 연결 지어야 하는지 궁금합니다.
장비 설명에서 Vpp는 RF Matcher의 Position으로부터 도출되는 것이라고 설명되있었습니다.
즉 하부에서 RF reflect가 존재해야 Vpp가 계산된다는 것인데, 이것으로 어떻게 Ion Energy를 예상하는지...
일반적으로 입사되는 Ion이나 전자의 전하 움직임을 Reflect로 해석하는 것인가요?
실명을 쓰시고, 해당 내용은 self bias (혹은 DC bias) 관련 내용을 공부하시면 이해가 쉬우실 것입니다. 관련해서 본 계시판에 설명이 수록되어 있으니 참고하시면 도움이 될 것입니다. 아울러 장비 matcher에서 Vpp 값이 어느 지점의 값인가를 면밀하게 살펴볼 필요가 있습니다. Matcher 제공사에서 상세한 정보를 제공할 것으로 기대합니다.