Etch RIE에 관한 질문이 있습니다.

2017.06.10 22:21

Etch공부 조회 수:2049

안녕하세요 반도체장비 기업에서 Etch 관련 업무에 종사하는 직장인입니다.

다름이 아니라 입사한지 얼마 안된 신입사원이라 이것 저것 공부를 하고 있는데 궁금증이 몇가지 있습니다.


CCP Type 의 경우는 Plasma의 Density는 높지 않지만 강한 힘으로 이온을 당길 수 있어 반도체의 Metal Contact이나 Trench공정에 사용되지 않습니까? 그리고 Plasma의 Sheath 영역이 Reactor의 내벽과 내부 Part들을 경계로 생긴다고 알고 있고, 전극은 Wafer의 하부에서 Bias Power를 가해 이온을 당기는 것으로 알고 있습니다.

 1. Wafer의 Edge에서 Wafer 주변 Ring 같은 구조물이 없다면 Plasma의 Sheath가 Wafer의 Edge에서 Wafer를 둘러싸게 되고 Wafer의 Edge로 이온의 입사가 집중되어 Wafer Edge의 Etch Rate나 Temp가 변하고 Uniformity가 안좋아지는 것으로 알고 있는데 맞나요??

 2. 만약 1번이 맞다면 아래로 당기는 Bias Power의 방향은 아래로만 향하는데 어째서 Sheath영역이 Wafer를 둘러싸기에 Etch에 불균일이 생기는 건가요?

3. 플라즈마의 균일도 향상을 위해서 Focus Ring이라는 부품이 Plasma의 Sheath가 Wafer면 위에 고루 퍼지게, Edge부분과 Center부분의 균일도를 개선하는 역할을 한다고 알고 있습니다. 이는 그렇다면 Sheath 영역이 변하면서 균일도가 좋아지는 것인가요?

4. 플라즈마에서 Radical과 양이온이 Etch에서 주요한 역할을 한다고 알고 있고 CCP에서는 양이온의 Etch가 큰 영역을 차지한다고 알고 있습니다. 헌데 Radical의 경우엔 어떻게 식각을 하나요? Radical은 전기적으로 중성아닌가요? 중성인데 Bias Power로 인한 E Field에 영향을 받고 움직일 수 있는것인가요???

다소 두서없고 앞뒤가 없는 질문입니다만 막 Plasma 공부를 시작한 초심자이니 넓은 아량으로 답변해주시면 정말 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [112] 4890
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16230
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63749
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83516
378 고진공 만드는방법. [1] 787
377 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 351
376 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 556
375 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 807
374 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 396
373 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 573
372 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 3860
371 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2451
370 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 2658
369 활성이온 측정 방법 [1] 447
368 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1152
367 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1591
366 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1364
365 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 1911
364 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1384
363 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1542
362 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 631
361 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 799
360 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 938
359 DC bias (Self bias) [3] 10008

Boards


XE Login