Matcher 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~

2019.08.06 11:00

정혜민 조회 수:5098

matcher를 봤을 때 직렬은 tune 병렬은 load라 튠값으로는 리액턴스를 로드 값으로는 저항성분에 대해 알 수 있다고 알고 있는데요

가끔 로드랑 튠 값이 흔들리고 산포가 좋지 않을 때가 있다합니다. 이렇게 값들이 흔들리는 이유로는 전체적으로 뭐가 있을까요?

또 plasma를 켰을 떄 매쳐의 로드와 튠 값에 영향을 주는 이자들은 무엇들이 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76875
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92697
497 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1708
496 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1523
495 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3430
494 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1171
493 질문있습니다. [1] 2583
492 chamber impedance [1] 2014
491 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3340
490 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2149
» 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5098
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1379
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 747
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6291
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1672
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1192
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3208
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2886
481 교수님 질문이 있습니다. [1] 760
480 wafer bias [1] 1138
479 Group Delay 문의드립니다. [1] 1151
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 517
쓰기
태그

Boards

XE Login