안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

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532 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1855
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524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1988
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power] [1] 8338
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 1455
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI] [2] 1476
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516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 4247
515 간단한 질문 몇개드립니다. [공정 drift와 database] [1] 814

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