안녕하십니까.. 현재 반도체업계 종사중이며 Plasma 관련 일을 하고 있습니다. 

다름이 아니오라 궁금한 점이 있어 이렇게 글을 올립니다.

Plasma에 의한 Gas 분해 및 치환 시 하기와 같은 예로


Zr[N(CH3)(C2H5)]4 ---->Zr + N + C + H    (O2 Add)

-- Zr + O2 --->ZrO2

-- C + O2 -->CO2

-- N + N --> N2

-- 4H + O2 -->2H2O

반응하여 생성된다고 가정하였을 때


반도체 공정중에서 Plasma를 발생시켜 Source Gas 및 Add Gas를 반응시켰을 시

1. 생성되는 Powder 종류

2. 생성되는 Gas 종류

3. 항목 1~2에서 우선순위로 생성되는 Gas 및 Powder 종류


위 내용에 관련하여 조언 및 교육을 받고자 하오니 답변 부탁드리겠습니다.


이상입니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
497 MFP에 대해서.. [1] 7830
496 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7704
495 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7658
494 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7644
493 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7261
492 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7109
491 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6683
490 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6674
489 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6570
488 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6540
487 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6499
486 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6492
485 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6472
484 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6451
483 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6431
482 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6419
481 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6410
480 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6369
479 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6287
478 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6274

Boards


XE Login