이제 막 Plasma라는 것에 첫발을 딛은 직장 입니다. 

 

주파수는 13.56Mhz 사용 중입니다. 

 

공정 Power가 500W -> 1000W로 올렸더니 Load position이 내려 갔습니다. 

 

RF power가 상향되면 Load position이 내려가는 이유를 잘 모르겠습니다. (기계공학전공입니다.)

 

Load position이 내려가는 이유를 알려주실수 있을까요? 

 

감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5807
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17215
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53055
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64480
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85098
398 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1965
397 Si Wafer Broken [2] 1966
396 플라즈마볼 제작시 [1] file 1974
395 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] 1978
394 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 1990
393 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2003
392 Wafer particle 성분 분석 [1] 2015
391 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2023
» Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2042
389 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2076
388 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2077
387 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 2104
386 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2107
385 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2146
384 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2155
383 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2158
382 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2178
381 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2185
380 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 2204
379 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 2224

Boards


XE Login