번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48660
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 50558
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 56135
269 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 3424
268 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 3160
267 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3145
266 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 3118
265 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3102
264 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 3014
263 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [2] 3009
262 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 2794
261 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 2737
260 ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. file 2714
259 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 2676
258 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 2642
257 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 2641
256 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 2587
255 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 2531
254 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 2445
253 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 2231
252 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 2164
251 PR wafer seasoning [1] 2118
250 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2084

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