OES 자료 요청드립니다.

2014.06.12 01:00

ringring 조회 수:6070

안녕하세요?

삼성반도체에서 식각 공정 OES 평가 업무를 하고 있습니다.

진공학회에서 OES자료를 찾다가  필요한 부분이 있어 자료 요청드립니다.

제목 : 광진단을 통한 플라즈마 공정 상태 변동 메커니즘 분석  


진공학회 및 DB PIA에서는 1page만 있어  Full ver.이  필요합니다.

참고로 구매를 했는데도 1page만 보이고 있어 메일로 요청드립니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5858
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17324
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53142
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64541
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85151
397 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6501
396 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6474
395 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6366
394 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6332
393 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6330
392 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 6289
391 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6258
390 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6242
389 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6229
388 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6112
387 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 6107
386 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6078
» 자료 요청드립니다. [1] 6070
384 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 5914
383 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 5768
382 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5717
381 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5694
380 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5429
379 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5341

Boards


XE Login