안녕하세요.

반도체업계 종사자인 이우림이라고 합니다


다름이 아니라 300mm wafer위에 파티클 오염 분석을 진행중인데요.

혹시 300mm wafer를 coupon이 아닌 full wafer 상태로 삽입하여 wafer위의 파티클 성분 분석이 가능한 장비를 보유한 연구소를 알고 계신지요?

향후 분석에 꼭 필요한데 해당 장비 보유한 연구소를 찾지 못하는 상황입니다.

혹은 장비 관련 정보라도 알려주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76750
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20217
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57170
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68707
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92309
490 MFP에 대해서.. [1] 7825
489 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7704
488 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7652
487 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7620
486 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7230
485 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7089
484 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6648
483 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6586
482 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6569
481 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6540
480 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6493
479 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6473
478 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6465
477 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6438
476 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6418
475 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6414
474 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6410
473 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6365
472 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6274
471 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6251

Boards


XE Login