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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73325
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513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리] [1] 1205
512 Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료] [1] file 1051
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 20041
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model] [1] 1099
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF] [2] 4195
508 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1333
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [Skin depth, global model과 floating potential] [2] 1554
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [Flow rate와 moral ratio, resident time] [1] 3709
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소] [1] 788
504 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 2046
503 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time] [1] 2573
502 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [ESC와 matcher] [1] 13933
501 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [Step ionization, Dissociative ionization] [1] 3043
500 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] 1463
499 임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching] [1] file 3321
498 전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성] [1] 847
497 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry] [3] 2083
496 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD] [2] 2046
495 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model] [2] 4385
494 대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계] [2] 1426
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