플라즈마는 기본적으로 양극과 음극 사이에, 아르곤 등의 비활성 기체를 넣어줘서, 이 비활성 기체가 전기장에 의해 방전되어서

이온화 되는 것으로 알고 있습니다.


그런데 크룩스의 음극선 실험에서, 실험 조건을 보니까, 진공관에다가 양 끝 단에 전위차를 걸어주고 있습니다.

이 음극선 실험에서 관출되는 음극선 (cathode ray)를 , 플라즈마의 일종으로 봐야 할까요? 아니면

플라즈마가 아니고, 그냥 전자의 다발로 이해해야 하나요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20207
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92291
469 자료 요청드립니다. [1] 6207
468 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6182
467 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6071
466 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6001
465 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5927
464 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5903
463 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5850
462 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5806
461 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5677
460 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5534
459 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5455
458 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5272
457 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5152
456 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5069
455 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4943
454 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4810
453 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4486
452 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4322
451 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4273
450 플라즈마 색 관찰 [1] 4259

Boards


XE Login