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378 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5229
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370 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4254
369 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4133
368 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 3979
367 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 3960
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363 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3890
362 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3620
361 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3594
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