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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63008
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82184
348 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 2616
347 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 2634
346 ESC Cooling gas 관련 [1] 2723
345 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 2754
344 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 2756
343 플라즈마 색 관찰 [1] 2782
342 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 2794
341 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 2814
340 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 2890
339 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 2929
338 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 2938
337 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3017
336 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 3019
335 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3313
334 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3374
333 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3413
332 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 3584
331 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3732
330 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 3759

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