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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 75177
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 108661
515 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1845
514 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극] [1] 1847
513 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1868
512 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1875
511 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning] [1] file 1877
510 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1880
509 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1883
508 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1887
507 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1889
506 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1892
505 Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과] [1] 1904
504 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1925
503 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1939
502 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1946
501 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1953
500 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1969
499 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1971
498 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1972
497 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1982
496 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1988
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