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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64184
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370 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2205
369 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 2239
368 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 2275
367 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2384
366 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2415
365 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2440
364 PR wafer seasoning [1] 2443
363 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2475
362 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2499
361 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 2538
360 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 2538
359 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2552
358 Descum 관련 문의 사항. [1] 2578
357 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 2637
356 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 2658
355 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 2659
354 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2677
353 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 2698
352 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 2715
351 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 2796

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