ICP 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!?

2017.03.31 11:28

메탈 조회 수:1873

안녕하세요. s전자 송용재입니다.

ICP type 챔버과련 문의 드립니다.

1. RF source power(상단)를 인가하게 되면 전기장이 절연체를 통해 투과하여 plasma가 형성이 됩니다.

   책을 보면 플라즈마내 이온의 에너지는 거의 없고 , 전자는 가속이 된다고 하는데..

   전자만 전기장에 영향이 있는건가요?? 아님 전자의 mobility영향에 따른 상대적인 표현인건가요?

2. 저희 회사의 장비는 endura model icp type RF 장비를 사용하고 있습니다.

    RF bias power쪽은 generator - matcher - chamber 로 power가 들어오는데

    RF source power는 generator - resonator - chamber 로 power전달이 됩니다.

    resonator로 source power부분의 reflect power를 조정하는데 어떤 원리로 조정이 가능한건지 궁금합니다.

    오래된 장비다보니 관련 자료를 업체에서 얻을수도 없네요..

    resonator tap이라는걸 이용해 Coil에 감겨있는 거리에 따라 reflect power가 변한다고 하는데 원리를 모르겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76437
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19997
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57070
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68543
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91344
457 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1772
456 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1804
455 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1808
454 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1814
453 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1835
452 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1836
451 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1846
450 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1851
449 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1855
448 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1858
» 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1873
446 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1873
445 가입인사드립니다. [1] 1877
444 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 1878
443 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 1888
442 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1889
441 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1891
440 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1896
439 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1901
438 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1903

Boards


XE Login