플라즈마는 전기장에서 가속운동을 하고 자기장에서 회전운동을 하는데 이런 현상이 발생하는 이유가 자기의 시간적 변화에 의해 전기적 성질이 발현되는 현상을 뜻하는 전자기유도현상과 관련있나요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76901
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20295
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57211
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68763
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92720
479 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1568
478 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1611
477 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1627
476 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1629
475 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1653
474 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1672
473 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1678
472 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1678
471 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1679
470 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1694
469 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1708
468 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1710
467 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1713
466 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1755
465 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1764
464 터보펌프 에러관련 [1] 1773
463 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1781
462 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1813
461 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1824
» 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1861

Boards


XE Login