Deposition Pecvd장비 공정 질문 [Dusty plasma와 벽면 particle 제어]

2018.12.17 22:52

손흥민뮌헨가자 조회 수:2060

.반도체회사에서 pecvd 담당하고 있는 초보인데요. 궁금한게 몇개 있어 물어보겠습니다.

1.  pecvd 증착 후 wafer edge에 많은 defect을 해결하는 방법 (center는 깨끗함, edge에만 defect이 수없이 많음)

2. pecvd deposition 중  reflected power가  팅기는 현상으로 인해 두께가 낮아지거나 높아지는 현상이 있나요? 있다면 해결방법 알려주세요.

3. 한번 공정할때 wafer가 5장이 들어가는데 최대한 두께가 균일하게 증착할 방법이 있을까요? 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 101851
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24449
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61106
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73142
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105306
513 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘] [1] 1753
512 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1753
511 Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과] [1] 1758
510 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 1758
509 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극] [1] 1764
508 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1782
507 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1799
506 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1812
505 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1812
504 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1816
503 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1824
502 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1824
501 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1829
500 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1832
499 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1837
498 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1856
497 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1861
496 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1882
495 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1891
494 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1903
쓰기
태그

Boards

XE Login