OES 자료 요청드립니다.

2014.06.12 01:00

ringring 조회 수:6207

안녕하세요?

삼성반도체에서 식각 공정 OES 평가 업무를 하고 있습니다.

진공학회에서 OES자료를 찾다가  필요한 부분이 있어 자료 요청드립니다.

제목 : 광진단을 통한 플라즈마 공정 상태 변동 메커니즘 분석  


진공학회 및 DB PIA에서는 1page만 있어  Full ver.이  필요합니다.

참고로 구매를 했는데도 1page만 보이고 있어 메일로 요청드립니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20211
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92294
» 자료 요청드립니다. [1] 6207
468 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6183
467 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6071
466 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6002
465 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5927
464 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5903
463 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5851
462 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5807
461 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5677
460 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5534
459 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5455
458 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5272
457 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5152
456 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5069
455 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4945
454 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4810
453 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4486
452 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4322
451 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4274
450 플라즈마 색 관찰 [1] 4260

Boards


XE Login