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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71269
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489 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달] [1] 5491
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2304
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [충돌 거리 및 Deposition] [1] 941
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화] [2] 6558
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy] [1] 1965
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속] [1] 1394
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance] [3] 3543
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 3105
481 교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath] [1] 991
480 wafer bias [Self bias] [1] 1367
479 Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1308
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder] [1] 666
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 2453
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1138
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 2265
474 PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] 32899
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델] [1] 2742
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 4011
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1264
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 915

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