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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포]
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chamber impedance [장비 임피던스 데이터]
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PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간]
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플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge]
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매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달]
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[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자]
[2] | 2399 |
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Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [충돌 거리 및 Deposition]
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Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화]
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EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy]
[1] | 2081 |
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ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속]
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matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance]
[3] | 3726 |
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HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
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교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath]
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wafer bias [Self bias]
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Group Delay 문의드립니다. [마이크로파]
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Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder]
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RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술]
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리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ
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안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마]
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PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정]
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