Others RPC CLEAN 시 THD 발생

2018.10.25 14:48

야키소바빵 조회 수:634

안녕하세요 반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.

현재 저희 설비에 2개의 CHAMBER가 달려 있습니다. RPC CLEAN을 사용하는 장비인데

두 CH가 동시에 CLEAN이 동작하게되면 공급단 POWER 관련하여 지속적인 ERROR 가 발생을 합니다.(따로 진행시 문제 없음)

고조파 측정시 2개의 CH가 동시에 CLEAN 진행시 높아지는 현상을 발견 하였으나, 그 원인을 찾기 힘들어 질문 드립니다.

POWER CABLING이 의심 되는 상황이나, CABLE 길이 및 위치, 혹은 말림 정도가 영향이 있는지 문의 드리고, 혹시 이 외에 다른 원인을 추측할만한 내용이 있을지 질문 드립니다.

현재 CABLE 연결 상태 및 POWER SUPPLY(설비단) 교체 등 다른 방법을 진행 해 보았으나, 현상이 동일하게 발생하여 설비단 보다는  공급단쪽 POWER를 의심하고 있는 상태 입니다.


혹시 이 글과 관련된 경험이 있으신분은 답변 부탁 드리겠습니다.

감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20207
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92293
449 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 501
448 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1295
447 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 757
446 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 805
445 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 854
444 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 968
443 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 558
442 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1661
441 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 390
440 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 472
439 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2327
438 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1661
437 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1324
436 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2319
435 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3446
434 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 666
433 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1192
432 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2130
431 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 487
430 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 589

Boards


XE Login