안녕하세요, KAIST 핵융합 및 플라즈마 연구실 소속 석사과정 권대호입니다.

다름이 아니라, 저희 연구실에서 사용하는 CCP 장비에서 접지 관련으로 보이는 문제가 발견되어 질문 드립니다.

 

첨부한 사진과 같이 구성되어 있는 CCP 챔버에서, 상부전극에는 13.56MHz RF Power 를 인가하고, 하부전극은 수도관에 접지해두었습니다. 또한, 챔버역시 동일한 수도관에 연결하여 접지하여 연결하였습니다. (접지 연결은 동축케이블을 사용하였습니다.)

 

이후 RF Power 를 인가한 뒤 하부 전극의 전압을 오실로스코프로 측정할 때, 해당 전극을 접지하였음에도 불구하고 13.56MHz 신호가 관측이 되었습니다. 수도관 자체 및 챔버에서 또한 13.56MHz 신호가 관측되었습니다. 

처음에는 RF Power 가 제대로 차페되지 않아 생기는 문제로 추측하여 RF Power 또한 수도관에 접지하였으나 동일한 현상이 발생하였습니다. 또한, RF Power를 챔버에 연결하지 않았을 때는 RF Power 를 인가하는 경우에도 수도관 접지에서 신호가 발생하지 않았습니다.

 

RF Power 인가 후 관측된 13.56MHz 신호의 평균값은 항상 0V로 관측되었습니다. 또한 RF Power 의 크기를 늘릴 때마다 신호의 Vpp 값이 증가하는 것을 관측하였습니다. (RF Power 자체의 Vpp값은 측정장비가 없어 알 수 없는 상황입니다.)

 

위와 같은 관측을 했음에도 불구하고, CCP 장비 및 전기 장비에 대한 이해도 부족으로 적절하게 접지가 이뤄져 있는 지 조차 판단이 어렵습니다.

이에, 다음 두가지 사항을 질문드립니다.

1. 일반적으로 CCP를 접지하는 방법 혹은 PAL 에서 CCP를 접지하고 있는 방법

2. 위와 같은 구성에서 접지가 적절하게 이뤄져 있는지를 체크할 수 있는 방법

 

부디 조언 부탁드립니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 101889
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24464
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61124
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73156
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105321
493 질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포] [1] 2940
492 chamber impedance [장비 임피던스 데이터] [1] 2435
491 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간] [1] 4175
490 플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge] [1] 2531
489 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달] [1] 5714
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2397
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [충돌 거리 및 Deposition] [1] 1042
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화] [2] 6765
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy] [1] 2071
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속] [1] 1511
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance] [3] 3712
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 3197
481 교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath] [1] 1149
480 wafer bias [Self bias] [1] 1518
479 Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1393
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder] [1] 730
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 2630
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1170
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 2382
474 PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] 33008

Boards


XE Login